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    真空高溫純化爐
    真空高溫純化爐
    產(chǎn)品描述:
    用于石墨粉體、石墨制品、保溫材料等材料的高溫提純處理。
    應用范圍:
    高純石墨粉體、高純石墨制品、高純纖維保溫材料等。雜質(zhì)含量:≤5ppm(石墨)、≤20ppm(碳纖維保溫材料)。

    真空高溫純化爐技術(shù)特征

    可實(shí)現高溫法與化學(xué)法相結合的提純工藝;

    電阻爐采用頂立科技專(zhuān)屬超高溫、大電流引電技術(shù),能在2600℃條件下長(cháng)時(shí)間穩定使用;

    電阻爐可采用多溫區獨立控溫,溫度均勻性好;

    采用特殊的高溫紅外測量技術(shù),控溫準確,誤差??;

    采用感應加熱形式,最高溫度可達3000℃,適用于高溫法提純;

    適于工藝氣氛:真空/N2/Ar/CH4/H2/工藝氣氛。

    真空高溫純化爐產(chǎn)品規格

    臥式真空高溫純化爐
    參數\型號HPF-111115HPF-131320HPF-161635HPF-161670HPF-201840
    工作區尺寸
    W×H×L(mm)
    1100×1100×15001300×1300×20001600×1600×35001600×1600×70002000×1800×4000
    最高溫度(℃)2500
    溫度均勻性(℃)±5~±20
    極限真空度(Pa)1-100
    壓升率(Pa/h)0.67


    立式真空高溫純化爐
    參數\型號VPF-0305VPF-0608VPF-0812VPF-1216VPF-1320VPF-1520VPF-161636
    工作區尺寸 φ×H(mm)300×500600×800800×12001200×16001300×20001500×20001600×1600×3600
    最高溫度(℃)2500-30002500
    溫度均勻性(℃)±5~±20
    極限真空度(Pa)1-100
    壓升率(Pa/h)0.67

    以上參數可根據工藝要求進(jìn)行調整,不作為驗收依據,具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準。

    真空高溫純化爐配置選擇

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    半導體材料熱工裝備

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